【CNMO科技动静】6月1日，CNMO科技留意到，台积电利用英伟达CUDA-X库及AI模子，加快英伟达GPU上的事情负载。

有外媒指出，进步前辈芯片的设计与制造，陪同着海量计较使命，同时要求晶圆厂各环节高度协同，涵盖芯片设计方案落地、晶体管建模、制程管控、厂区产能优化等范畴。台积电基在英伟达显卡，挪用CUDA-X函数库与人工智能模子，周全加快各种运算使命：

计较光刻：采用英伟达cuLitho显卡加快函数库（专为芯片掩模光刻工艺打造）。相较在传统CPU方案，该技能可将光刻环节的成本效益或者出产周期优化20%至50%，且总体拥有成本连结稳定。

晶体管、装备与制程仿真：运用英伟达cuEST电子布局仿真函数库，用在半导体质料研发，化学仿真运算速率平均晋升50倍。

进步前辈制程管控：借助英伟达cuML呆板进修函数库，于显卡端加快年夜范围数据阐发。该方案可快速运算算法，梳理数万道出产工序中的数十万项制程参数，将其精准输入呆板进修模子，年夜幅缩减制程误差。

相干报导

晶圆厂运营优化：依托CUDA实现显卡加快排程运算，搭配英伟达H200显卡后，厂区产能获得显著晋升。借助H200显卡的CUDA算力，台积电可以或许更好地应答繁杂出产限定，精简出产流程，最年夜化晶圆厂产能。

版权所有，未经许可不患上转载

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有外媒指出，进步前辈芯片的设计与制造，陪同着海量计较使命，同时要求晶圆厂各环节高度协同，涵盖芯片设计方案落地、晶体管建模、制程管控、厂区产能优化等范畴。台积电基在英伟达显卡，挪用CUDA-X函数库与人工智能模子，周全加快各种运算使命：

计较光刻：采用英伟达cuLitho显卡加快函数库（专为芯片掩模光刻工艺打造）。相较在传统CPU方案，该技能可将光刻环节的成本效益或者出产周期优化20%至50%，且总体拥有成本连结稳定。

晶体管、装备与制程仿真：运用英伟达cuEST电子布局仿真函数库，用在半导体质料研发，化学仿真运算速率平均晋升50倍。

进步前辈制程管控：借助英伟达cuML呆板进修函数库，于显卡端加快年夜范围数据阐发。该方案可快速运算算法，梳理数万道出产工序中的数十万项制程参数，将其精准输入呆板进修模子，年夜幅缩减制程误差。

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